水冷tcu廠家-清晰顯示過程曲線

　　無錫冠亞水冷tcu溫度控制系統(tǒng)可實現(xiàn)-120度~300度的動態(tài)控溫，該系統(tǒng)采用現(xiàn)有的熱能基礎設施集成到用來控制工藝設備溫度的單流體系統(tǒng)或二回路中。

　　水冷tcu采用壓縮制冷方法的低溫液體循環(huán)設備，可直接冷卻試管、反應瓶等進行低溫下的化學反應，水冷tcu在實驗室使用過程中應該注意以下事項：

　　1、在使用水冷tcu之前應加入液體介質(zhì)(純水，酒精，防凍液也可)，介質(zhì)液面應沒過槽內(nèi)制冷盤管并低于工作臺20mm為宜。

　　2、電源：220V50Hz，電源功率應大于儀器的總功率，電源必須有良好“接地”裝置；

　　3、避免酸堿類的物質(zhì)進入槽內(nèi)腐蝕盤管以及內(nèi)膽。

　　4、儀器應安置于干燥通風處，儀器周圍300mm內(nèi)無障礙物；

　　5、經(jīng)常注意觀察槽內(nèi)液面高低，當液面過低時，應及時添加液體介質(zhì)

　　6、當水冷tcu工作溫度較低時，應注意不要開啟上蓋，手勿進入槽內(nèi)，以防凍傷；

　　7、使用完畢，所有開關置于關閉狀態(tài)，切斷電源；

　　8、液體外循環(huán)時，客戶應特別注意引出管連接處的牢固性，嚴防脫落，以免液體漏出。

9、儀器應做好經(jīng)常性清潔工作，長久不用，清空槽內(nèi)的介質(zhì)，并且擦拭干凈，保持工作臺面和操作面板的整潔。

無錫冠亞冷熱一體機典型應用于：

高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

微通道反應器冷熱源恒溫控制；

小型恒溫控制系統(tǒng)、

蒸飽系統(tǒng)控溫、

材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、

半導體設備冷卻加熱、

真空室制冷加熱恒溫控制。